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赤外線の肌ダメージは光でなく熱の影響 メカニズムの一端を解明

株式会社資生堂(東京都中央区/社長兼CEO:魚谷雅彦)は8月13日、赤外線の影響を正確に評価する実験手法を独自に確立し、赤外線が肌に悪影響を与えるメカニズムの一端を解明したと発表した。

同研究によると赤外線が肌に与えるダメージは、赤外線そのものではなく赤外線によって産生される熱によるものと結論付けられた。

今回の研究では、細胞を用いた実験と皮膚中成分の分析という2つの方法で影響を確認した。

まず、線維芽細胞に温度条件をコントロールしながら、日常的に浴びうるレベルの赤外線を照射して、その影響を観察した。

その結果、赤外線の「光」ではなく、赤外線によって生じる「熱」によって血管内皮増殖因子(VEGF-A)が増加することがわかった(図3)。

また、VEGF-Aは、シミや赤み、シワなどの肌悩みとの関与が示唆されていることから、過剰な増加は肌へ悪影響を及ぼすと考えられた。

続いて、皮膚中に存在する成分の変化を成分分析で確認したところ、こちらも赤外線の照射時の温度(熱)で、皮膚中の肌トラブルの原因となる成分(過酸化脂質)が増加することが明らかになった(図4)。

これらの結果から同社は、日常的に浴びうる赤外線によって生じる「熱」が、肌に悪影響を与えることがわかったと結論づけた。

さらに同社は今回の研究について、「赤外線による肌への影響を正しく評価するためには温度上昇をコントロールする必要があることから、詳細な検証は困難とされていました。そこで今回、赤外線の影響を正確に評価するために、光と熱による影響を切り分けて確認することができる独自の実験手法を確立し、研究を進めました」その経緯を述べている。

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