環境紫外線（UV）への曝露とニキビリスクの関係を検討したコホート研究の結果が12月21日、「Photodermatology, photoimmunology & photomedicine」オンラインに掲載された。

中国の5つの大学の学生1万9939人を対象に、多施設レトロスペクティブ コホート研究を実施した。個人個人の故郷の住所から研究登録の6年前に曝露した環境UVの波長を取得。ロジスティックモデルで環境UV曝露とニキビとの関係を評価した。サブグループ分析は、日焼け止め行動と毎日の日光曝露の時間によるサブグループ解析、異なるUVの波長（305nm、310nm、324nm、380nm）への曝露による影響をベイジアンカーネルマシン回帰で評価した。

その結果、すべての参加者の分析では、305nmでのUV曝露の対数変換レベル（log(UV 305nm)）とニキビに有意な関連性が示された。効果の大きさは、日焼け止めの習慣がないと報告した参加者でより強かった。305nmと310nmの両UVは、日焼け止めの習慣がないと報告した参加者のニキビリスクの低下と関連していた。この逆相関は、低レベルのUV（1日当たり1時間未満）にさらされた人でも観察された。ベイジアンカーネルマシン回帰では、低レベルのUV曝露がニキビのリスク低下と関連しているという一貫した結果を示した。